2024年4月20日发(作者：么雅可)
FAX MESSAGE
TO：乾朔
ATTN:李’R
C C:
Fax No：
From：力桥-孙秀明
Date：
Page：2/2
REF：
TOPIC：普通镍和高温镍添加剂变化哈氏片状况
李’R：
您好！首先感谢您和贵司一直以来对我们公司的支持，现将关于普通镍和高温镍添加
剂变化哈氏片状况相关报告整理如下：
(一)
說明:
普通镍和高温镍添加剂变化哈氏片状况
(二)
具体步骤如下:
哈氏片脱脂不干净(即前处理不良)
哈氏片 开缸条件
镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L
硼酸:35g/L
N500ADD:W=5:0.3ml/L
3A,7.6V,2min,55-60℃,空气搅拌
低区漏镀及白雾
1
1.普通镍N500开缸条件及哈氏片
哈氏片 开缸条件
镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L
硼酸:35g/L
3A,7.6V,2min,55-60℃,空气搅拌
镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L
硼酸:35g/L,N500W:0.3ml/L
N500ADD:1ml/L
3A,7.3V,2min,55-60℃,空气搅拌
镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L
硼酸:35g/L,N500W:0.3ml/L
N500ADD:5ml/L
3A,7.6V,2min,55-60℃,空气搅拌
镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L
硼酸:35g/L,N500W:0.3ml/L
N500ADD:10ml/L
3A,7.2V,2min,55-60℃,空气搅拌
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2024年4月20日发(作者：么雅可)
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TO：乾朔
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Fax No：
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TOPIC：普通镍和高温镍添加剂变化哈氏片状况
李’R：
您好！首先感谢您和贵司一直以来对我们公司的支持，现将关于普通镍和高温镍添加
剂变化哈氏片状况相关报告整理如下：
(一)
說明:
普通镍和高温镍添加剂变化哈氏片状况
(二)
具体步骤如下:
哈氏片脱脂不干净(即前处理不良)
哈氏片 开缸条件
镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L
硼酸:35g/L
N500ADD:W=5:0.3ml/L
3A,7.6V,2min,55-60℃,空气搅拌
低区漏镀及白雾
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1.普通镍N500开缸条件及哈氏片
哈氏片 开缸条件
镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L
硼酸:35g/L
3A,7.6V,2min,55-60℃,空气搅拌
镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L
硼酸:35g/L,N500W:0.3ml/L
N500ADD:1ml/L
3A,7.3V,2min,55-60℃,空气搅拌
镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L
硼酸:35g/L,N500W:0.3ml/L
N500ADD:5ml/L
3A,7.6V,2min,55-60℃,空气搅拌
镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L
硼酸:35g/L,N500W:0.3ml/L
N500ADD:10ml/L
3A,7.2V,2min,55-60℃,空气搅拌
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